ПРИРОДА И МЕХАНИЗМ ОБРАЗОВАНИЯ g-НАВЕДЕННЫХ ЦЕНТРОВ ОКРАСКИ С ПОЛОСОЙ ОПТИЧЕСКОГО ПОГЛОЩЕНИЯ 665 нм В КВАРЦЕВЫХ СТЕКЛАХ ТИПА КС-4В и КИ

А. Х. Исламов, Э. М. Ибрагимова, Б. С. Файзуллаев, И. А. Хайитбоев, И. А. Хайитов

Аннотация


Целью эксперимента было выяснение механизма образования центров окраски с полосой оптического поглощения в области 660-680 нм, индуцированных в кварцевых стеклах марки КС-4В и КИ облучением g-квантами 60Со при мощности 2,5 Гр/с и температуре 77, 273 и 310 К в интервале дозы 30-105Гр. Полоса 665 нм эффективно индуцируется в образцах КИ, которые содержат больше металлических примесей (-1). Показано, что наведенная полоса 665 нм в КС-4В после выдержки в течение 40 мин при 300 К ослабляется примерно на 30%, после 3 ч почти исчезает, она термически устойчива при 323 К полностью отжигается. Кинетика накопления центров окраски полосы 665 нм в КС-4В при >4.102Гр вызвана разрывом связи M+O-Si= около алюминия =Al3+. В отличие от стекол марки КС-4В и КИ в качестве окошек реактора ИТЭР для видимой области спектра рекомендуются стекла КУ-1.

Полный текст:

PDF

Литература


Vayakis G., Hodgson E., Voitsenya V. e.a. Generic diagnostic issues for a burning plasma experiment. - Fus. Sci. Technol., 2008, v. 53, p. 699-750.

Vukolov Yu. Radiation effects in window materials for ITER diagnostics. - Fus. Engng Design, 2009, v. 84, № 7-11, p. 1961-1963.

Leon M., Martin P., Ibarra A. e.a. Gamma irradiation induced defects in different types of fused silica. - J. Nucl. Mater., 2009, № 386-388, p. 1034-1037.

Амосов А.В., Петровский Г.Т. Дефекты типа «кислородная вакансия» в кварцевых стеклах. - ДАН СССР, 1983, т. 268, с. 66.

Блинкова Г.Б., Вахидов Ш.А., Исламов А.Х. и др. Подпороговое дефектообразование в кварцевых стеклах при воздействии ионизирующим излучением. - Физика и химия стекла, 1988, т. 14, № 14, с. 494-500.

Alessi A., Agnello S., Sporea D. e.a. Formation of optically active oxygen deficient centers in Ge-doped SiO2 by y- and ß-ray irradiation. - J. Non-Crystal. Sol., 2010, v. 356, p. 275-280.

Амосов А.В., Малышкин С.Ф. Радиационные центры окраски, ответственные за полосу поглощения 300 нм в спектрах кварцевых стекол. - Физика и химия стекла, 1982, т. 8, № 1, с. 88-92.

Блинкова Г.Б., Вахидов Ш.А., Нуритдинов И. и др. Локальное изменение структуры кварцевого стекла при облучении и высокотемпературной обработке. - Там же, 1999, т. 25, № 6, с. 660-663.

Силин А.Р., Трухин А.Н. Точечные дефекты и элементарные возбуждения в кристаллическом и стеклообразном SiO2. Рига: Зинатне, 1985. 244 с.

Islamov A.Kh., Salikhbaev U.S., Ibragimova E.M. e.a. Efficiency of generation of optical centers in KS-4V and KU1 quartz glasses at neutron and gamma irradiation. - J. Nucl. Mater., 2013, № 443, p. 393-397.

Morono A., Vila R., Hodgson E. KU1 and KS-4V quartz glass lenses for remote handling and diagnostic optical transmission systems. - Ibid., 2004, № 329-333, p. 1438-1441.

Constantinescu B., Bugoi R., Hodgson E. e.a. Studies on proton irradiation-induced modifications of KU1 and KS-4V quartz glasses ultraviolet transmission properties. - Ibid., 2007, № 367-370, p. 1048-1051.

Trukhin A.N., Jansons J.L., Truhins K. Luminescence of silica glass containing aluminum oxide. - J. Non-Crystal. Sol., 2004, v. 347, p. 80-86.


Ссылки

  • На текущий момент ссылки отсутствуют.